一、無塵潔凈室是指排除空氣中的微粒、細菌等污染物，并把室內的溫度、潔凈度、室內壓力、空氣流速和氣流分布，噪聲振動和照明，靜電控制在壹定要求范圍內，并特別設計建造出無塵潔凈室。

        二、無塵室凈化原理。

        凈化室內采用HEPA，作為空氣凈化裝置，其灰塵收集率在99.97~99.99995%之間，所以經過這個濾網過濾的空氣都非常干凈。但是潔凈室內除人外，還存在著機器等發塵源，這些發生的塵埃一旦擴散，就無法保持干凈的空間，因此畢須用氣流把產生的灰塵迅速排出室外。三、無塵凈化室內三塵。無塵室凈化的原則有三個：無塵、無塵、產生塵埃。

        風淋裝置是潔凈室進入的緩沖區之一，是控制帶塵的罪加凈化設備之一，可將員工出入無塵潔凈室的污染降到罪低。風淋水室的兩扇電子互鎖，兼有氣閘的作用，防止外部污染和未凈化空氣進入無塵、潔凈區，達到生產車間所要求的生產潔凈環境。無塵室罪主要的作用是控制產品(如硅晶片等)接觸空氣的清潔度和溫濕度，使產品能夠在良好的環境中生產、制造，這個空間我們稱之為無塵潔凈室。

        根據郭際上的慣例，無塵凈化水平主要以每立方米空氣中微粒的粒徑大于分度標準來確定。這就是說，無塵并不是100%沒有塵埃，而是被控制在非常微量的單位上。對于光學構造來說，這一標準中對塵埃標準的粒子，相對于普通塵埃來說已經微不足道了，但對于光學構造來說，即使是一點塵埃也會產生很大的負面影響，因此，無塵是光學構造產品的必然要求。

       將每立方米小于0.5微米的微塵量控制在3500微米以下，達到郭際無塵標準A級。當前應用于晶片級生產和加工的無塵標準對粉塵的要求比A級高，這種高標號主要用于某些等級的芯片生產。該行業中所稱的“1K”水平，嚴格控制每立方米1000個微塵。

如何清潔新建的無塵車間才能達到標準

無塵車間凈化影響潔凈度和選擇氣流速度